+7 (495) 363 10 94
ПН-ПТ с 9:00 до 18:00
Личный кабинет
Войти в кабинет
Личный кабинет
Пароль успешно изменен. Пожалуйста авторизуйтесь.

* Электронная почта:

* Пароль:
Телефон, указанный при регистрации, 10 цифр
Восстановить пароль
здесь совсем пусто

U-POL

U-pol Etch Primer аэрозольный грунт протравливающий, серый 500 мл

U-pol Etch Primer аэрозольный грунт протравливающий, серый 500 мл

U-Pol Etch Primer это однокомпонентный готовый к применению протравливающий грунт в аэрозольной упаковке. Он используется для грунтовки голого металла, для улучшения адгезии краски и защищает стальную поверхность от коррозии. В основном Etch Primer применяется для улучшения адгезии при протирах краски до голого металла и на обрабатывается голый металл перед нанесением герметика. Etch Primer не содержит хроматов. Распылитель имеет плаский факел. ПРИМЕНЕНИЕ: - обезжирить поверхность; - потрести балон 2 мин; - нанести 1-2 тонких слоя; - дать выдержку 3-5 мин между слоями; - наносить краску можно через 10-20 минут (время зависит от толщины слоя, температуры и влажности);

335

U-pol Etch Primer аэрозольный грунт протравливающий, серый 500 мл

U-pol Etch Primer аэрозольный грунт протравливающий, серый 500 мл
Бренд: U-POL
Цвет: Серый
Объём: 500 мл
Цвет грунта: Серый
Основа: Поливиниловая смола
Вид грунта: Кислотный
Упаковка: Аэрозоль

Артикул: PCEP/AL

Цена:
335 руб.


В наличии

Описание от производителя

U-Pol Etch Primer это однокомпонентный готовый к применению протравливающий грунт в аэрозольной упаковке. Он используется для грунтовки голого металла, для улучшения адгезии краски и защищает стальную поверхность от коррозии.

В основном Etch Primer применяется для улучшения адгезии при протирах краски до голого металла и на обрабатывается голый металл перед нанесением герметика.

Etch Primer не содержит хроматов.

Распылитель имеет плаский факел.

ПРИМЕНЕНИЕ:
- обезжирить поверхность;
- потрести балон 2 мин;
- нанести 1-2 тонких слоя;
- дать выдержку 3-5 мин между слоями;
- наносить краску можно через 10-20 минут (время зависит от толщины слоя, температуры и влажности);